真空系統(tǒng)應用于半導體工業(yè)還是比較多的。接下來介紹真空系統(tǒng)的內(nèi)容。

　　真空系統(tǒng)簡介

　　通過真空系統(tǒng)的設計，在單個生產(chǎn)機器上，更多的單個泵被幾個更大的真空泵代替。自動變頻控制系統(tǒng)通過儲氣罐的主支管配置并連接到生產(chǎn)機器上。真空供應根據(jù)生產(chǎn)要求全自動，節(jié)能、低成本、維護方便、性能穩(wěn)定。員工工作區(qū)域的噪音水平大大降低，以滿足半導體行業(yè)的技術(shù)要求。

　　真空泵應用部分

　　1.生產(chǎn)用真空主要是通過高真空減少工作空間的空氣，保持工作空間的清潔。所用真空泵的主要類型包括干式泵(干式螺旋真空泵、爪式泵)、分子泵及其裝置。生產(chǎn)用真空設備數(shù)量多，功率小。

　　2.清潔真空主要利用負壓和大氣壓之間的差異來清潔或輸送液體或顆粒。對于這些應用，主要使用水環(huán)泵和多級離心風扇。由于真空度低，通常采用多級離心風機，真空源是其系統(tǒng)的一部分。

　　3.工藝真空主要采用工件搬運負壓吸附或夾緊。螺桿泵、爪式泵、水環(huán)泵、旋轉(zhuǎn)葉片泵和微油螺桿泵等干式泵都是過程真空中常見的真空設備。

　　半導體真空泵應用安全事項：

　　1、防止真空泵溫度過高：

　　真空泵溫度過高會影響真空度和排氣量，對生產(chǎn)有直接影響。在半導體在真空泵的應用中，有害氣體比較多，而無論是干式真空泵還是油封機械泵，泵腔內(nèi)溫度過高，高溫下易燃易爆及有毒氣體就會容易發(fā)生危險。

　　2、半導體真空泵有效稀釋有害氣體的濃度：

　　半導體易產(chǎn)生前面所說的易燃易爆、有毒的有害氣體。所以半導體真空泵應用中在抽取這些介質(zhì)時就必須防止它們在真空泵內(nèi)或者排氣過程中發(fā)生一些不可控的反應。

　　比如SiH4、PH3、AsH3、B2H6等物質(zhì)，在與空氣或氧接觸的時候，會引起燃燒甚至爆炸;氫氣在空氣中的混合比例達到一定程度與溫度時也會發(fā)生燃燒。這些都取決于該物質(zhì)的量以及與環(huán)境的壓力、溫度的關(guān)系。因此半導體真空泵在抽取這些介質(zhì)時，需要用氮氣之類的惰性氣體，在壓縮前即將這些氣體稀釋到當時條件下的安全范圍。

　　3、真空泵注意氧氣的濃度：

　　空氣中的氧如果濃度過高也會發(fā)生燃燒及爆炸風險。所以一些情況下需注意氧的濃度，采用惰性氣體來稀釋，防止?jié)舛冗^高;假設是油封機械泵可能還需要采用一些惰性的與氧相容的真空泵油，并及時更換油濾和油品。

　　4、定期清洗真空泵及其他附件、過濾、管道，避免超壓：

　　半導體真空泵應用時，抽取介質(zhì)過程中經(jīng)過反應室與真空泵，其成分可能極為復雜，如SiH4與O2在泵口形成SiO2，TiCl4水解會形成HCl;假設是油封式機械泵，這些氣體物質(zhì)還可能與泵油發(fā)生化反。這些變化假設形成顆粒、可凝物或者腐蝕性介質(zhì)，就可能堵塞真空泵或管路系統(tǒng)，影響真空泵性能，造成壓力上升或超壓，一點中提到的危險性也更大。所以需要及時的清洗，并在必要的時候設置過濾設備。

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